BAO Mask Avenger 2版本是一款由BAO Plugins出品的AE三维路径遮罩顶点切线控制插件，可以直接在AE中控制和编辑Mask路径和遮罩的顶点，而且还可以在3D模式下控制遮罩，而无需使用空图层和表达式。然后可以更快地计算遮罩，并简化表达式编写。
BAO Mask Avenger v2版本的新功能：
公羊预览养护。以前版本的最大问题是Ram预览被
插件无效。Mask Avenger 2.0新的烘焙系统避免了这种情况。
3D面具。Mask Avenger现在以3D方式控制遮罩，无需使用空层和表达式。
然后更快地计算掩码，并简化表达式编写。
背景烘烤。当需要修改蒙版时，Mask Avenger会在
当前时间立即对其进行变形，并将工作区的其余部分在后台烘烤。这意味着您可以
在Mask Avenger忙于烘焙时继续工作。这取代了«动态»和«烘烤»模式。
更好的形状层兼容性。与“动态”模式相关的错误在新的烘焙
系统中消失了。
工作区和图层的持续时间不再影响Mask Avenger的计算速度。当然，
烘焙 100,000个关键帧需要比10个更长的时间，但新的烘焙系统允许您在
烘焙的同时继续工作。
不再需要Mask Renderer。Mask Avenger现在使用AE自带的遮罩功能，运行速度更快。
蒙版预览。
Mask avenger 2.0有一个预览系统，可以在更改应用于蒙版之前动态地向您显示更改。这避免了当蒙版被表达式、其他图层或相机修改时的延迟。
【插件要求】
插件语言：英文
插件兼容：After Effects CC 2023,2022,2021,2020,2019,2018,2017,2015,2014,CC,CS6 支持Win与Mac系统
使用帮助：带英文视频帮助教程
【效果视频】
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